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J-GLOBAL ID：200903018738751622

ルテニウム錯体の製造方法

Inventor： 真田 隆 ,  石谷 治
Applicant, Patent owner： 小島化学薬品株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998095151
Publication number (International publication number)：1999279188
Application date： Mar. 25, 1998
Publication date： Oct. 12, 1999
Summary：

【要約】【課題】 光電気化学電池の増感色素、あるいは光化学で利用される光触媒の原料として利用しうる高純度なビピリジンーカルボン酸ールテニウム錯体二水和物の収率よい製造方法を提供する。【解決手段】 3価に純化した塩化ルテニウム(RuCl3・3H2O)と配位子(L;2,2'-ビピリジン-4,4'-ジカルボン酸)を有機溶媒中で加熱反応してRuL2Cl2・2H2Oを生成させ、次いで、得られた反応生成物を有機溶媒に溶解し、該溶解物をチオシアン酸ナトリウムと加熱反応させ、得られた[RuL2(SCN)2]・2H2Oをヒドロキシプロピル基含有架橋デキストランを充填剤として用いるカラム精製法により精製することを特徴とする、一般式(1)【化1】 [RuL2(SCN)2]・2H2O (1)(上記一般式(1)においてLは、2,2'-ビピリジン-4,4'-ジカルボン酸である)で表わされるルテニウム錯体の製造方法。

Claim (excerpt)：

3価に純化した塩化ルテニウム(RuCl3・3H2O)と配位子(L;2,2'-ビピリジン-4,4'-ジカルボン酸)を有機溶媒中で加熱反応してRuL2Cl2・2H2Oを生成させ、次いで、得られた反応生成物を有機溶媒に溶解し、該溶解物をチオシアン酸ナトリウムと加熱反応させ、得られた[RuL2(SCN)2]・2H2Oをヒドロキシプロピル基含有架橋デキストランを充填剤として用いるカラム精製法により精製することを特徴とする、一般式(1)【化1】 [RuL2(SCN)2]・2H2O (1)(上記一般式(1)においてLは、2,2'-ビピリジン-4,4'-ジカルボン酸である)で表わされるルテニウム錯体の製造方法。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• エレクトロ化学ルミネセンスアッセイ
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-166280   Applicant：イゲン,インコーポレーテッド