測距装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：鈴江武彦 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998298511
Publication number (International publication number)：2000121352
Application date： Oct. 20, 1998
Publication date： Apr. 28, 2000
Summary：

【要約】【課題】アクティブ測距方式とパッシブ測距方式の両方に於いて、高精度な測距を行うことができる測距装置を提供すること。【解決手段】投光部2により測距対象1に投光がなされる。また、複数の画素を並設して構成された第1及び第2の受光部3及び4で受光量に応じた信号が出力される。そして、投光部2による測距対象1からの反射光を、上記第1及びまたは第2の受光部3、4で受光することで測距を行う第1の測距方式と、上記投光を行わずに測距対象1に応じた光を受光することで測距を行う第2の測距方式とが、モード選択部6で選択される。更に、第1及び第2の受光部3及び4の画素形状は、受光部形状変更部5によって変更される。この受光部形状変更部5は、上記投光を行う第1の測距方式と上記投光を行わない第2の測距方式とに応じて、上記第1及びまたは第2の受光部3、4の受光部形状を変更する。

Claim (excerpt)：

測距対象に投光する投光手段と、複数の画素を並設して構成され、受光量に応じた信号を出力する第1及び第2の受光手段と、上記投光手段による上記測距対象からの反射光を上記第1及びまたは第2の受光手段で受光することで測距を行う第1の測距方式と、上記投光を行わずに上記測距対象に応じた光を受光することで測距を行う第2の測距方式とを選択するモード選択手段と、上記第1及び第2の受光手段の画素形状を変更する受光部形状変更手段と、を具備し、上記受光部形状変更手段は、上記投光を行う第1の測距方式と上記投光を行わない第2の測距方式とに応じて、上記第1及びまたは第2の受光手段の受光部形状を変更することを特徴とする測距装置。

IPC (3)：

G01C 3/06 , G01B 11/00 , G06T 7/00

FI (4)：

G01C 3/06 A , G01C 3/06 V , G01B 11/00 B , G06F 15/62 415

F-Term (49)：

2F065AA06 , 2F065CC00 , 2F065DD03 , 2F065DD04 , 2F065DD09 , 2F065FF04 , 2F065FF09 , 2F065GG07 , 2F065HH04 , 2F065JJ02 , 2F065JJ05 , 2F065JJ25 , 2F065LL04 , 2F065NN08 , 2F065NN11 , 2F065NN16 , 2F065PP22 , 2F065QQ02 , 2F065QQ03 , 2F065QQ12 , 2F065QQ14 , 2F065QQ23 , 2F065QQ29 , 2F065QQ38 , 2F112AA08 , 2F112AC04 , 2F112BA06 , 2F112BA07 , 2F112CA02 , 2F112DA04 , 2F112DA26 , 2F112DA28 , 2F112DA40 , 2F112EA03 , 2F112FA03 , 2F112FA05 , 2F112FA07 , 2F112FA12 , 2F112FA14 , 2F112FA21 , 2F112FA29 , 2F112FA38 , 2F112FA45 , 2F112FA50 , 5B057BA12 , 5B057CH18 , 5B057DA07 , 5B057DB03 , 5B057DC34

Return to Previous Page