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J-GLOBAL ID：200903018760569161

縮小投影露光装置

Inventor： 清水 竜
Applicant, Patent owner： 三洋電機株式会社
Agent (1)： 恩田 博宣
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993298511
Publication number (International publication number)：1995153659
Application date： Nov. 29, 1993
Publication date： Jun. 16, 1995
Summary：

【要約】【目的】露光領域を大きくした上で様々な回路パターンに対応して高い解像性能を得ることが可能な縮小投影露光装置を提供する。【構成】光源51からの露光光は光源整形用アパーチャ1,2を介してフォトマスク53へ入射される。各アパーチャ1,2にはスリット状の光出射部3,4が形成されている。アパーチャ1については光出射部3の位置が異なるものが複数個設けられている。そのため、アパーチャ1を選択交換することで、光源51からの露光光をフォトマスク53に対して最適な入射角度で入射させることができる。前記露光光は、マスク53上の回路パターンによって回折され、0次回折光αと±1次回折光βとが生成される。各回折光α,±βは投影レンズ54の瞳54aを通して収束され、マスク53上の回路パターンはウェハ55の表面に結像される。ここで、レンズスキャン方式により、マスク53およびウェハ55を矢印Y方向に同期走査させている。

Claim (excerpt)：

フォトマスクへ入射させる露光光線の照明形状を、フォトマスク上の露光領域の一辺に対応したスリット状にし、当該スリット状の照明形状に対して垂直方向に、フォトマスクおよびウェハ上を縮小倍率に対応した相対的な同期走査をなすことにより、フォトマスク上の1つの露光領域分の露光を行わせるスキャン方式の縮小投影露光装置において、密度および形状が似通った回路パターンから構成される複数の領域(A〜C)から全体の露光領域が構成され、当該各領域(A〜C)が走査方向(Y)に沿って配置されているフォトマスク(53)と、フォトマスク(53)およびウェハ(55)上を縮小倍率に対応した相対的な同期走査をなす際に、走査を行っている前記領域(A〜C)に対応して露光光の入射角を調整する露光光入射角調整手段(1a〜1c,2)とを備えたことを特徴とする縮小投影露光装置。

IPC (4)：

H01L 21/027 ,  G03B 27/32 ,  G03F 1/00 ,  G03F 7/20 521