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J-GLOBAL ID:200903018761447302
ハードコート基材の製造方法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
久保山 隆 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999107773
Publication number (International publication number):2000234073
Application date: Apr. 15, 1999
Publication date: Aug. 29, 2000
Summary:
【要約】【課題】 厚みが小さくとも耐擦傷性が大きく低下していないハードコート層を有するハードコート基材を製造する方法を提供する。【解決手段】 基材の表面に形成された、活性化エネルギー線硬化性化合物および該活性化エネルギー線硬化性化合物100重量部あたり0.1〜15重量部のシリコーンオイルを含有する層に、活性化エネルギー線を照射することを特徴とする厚みが3μm以下のハードコート層を有するハードコート基材の製造方法。
Claim (excerpt):
基材の表面に形成された、活性化エネルギー線硬化性化合物および該活性化エネルギー線硬化性化合物100重量部あたり0.1〜15重量部のシリコーンオイルを含有する層に、活性化エネルギー線を照射することを特徴とする厚みが3μm以下のハードコート層を有するハードコート基材の製造方法。
IPC (4):
C09D 7/12
, B05D 7/24 301
, C09D 5/00
, C09D201/00
FI (4):
C09D 7/12 A
, B05D 7/24 301 T
, C09D 5/00 C
, C09D201/00
F-Term (8):
4D075CA02
, 4D075EA21
, 4D075EB42
, 4J038DL032
, 4J038FA011
, 4J038NA11
, 4J038PA17
, 4J038PC08
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