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J-GLOBAL ID:200903018761447302

ハードコート基材の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 久保山 隆 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999107773
Publication number (International publication number):2000234073
Application date: Apr. 15, 1999
Publication date: Aug. 29, 2000
Summary:
【要約】【課題】 厚みが小さくとも耐擦傷性が大きく低下していないハードコート層を有するハードコート基材を製造する方法を提供する。【解決手段】 基材の表面に形成された、活性化エネルギー線硬化性化合物および該活性化エネルギー線硬化性化合物100重量部あたり0.1〜15重量部のシリコーンオイルを含有する層に、活性化エネルギー線を照射することを特徴とする厚みが3μm以下のハードコート層を有するハードコート基材の製造方法。
Claim (excerpt):
基材の表面に形成された、活性化エネルギー線硬化性化合物および該活性化エネルギー線硬化性化合物100重量部あたり0.1〜15重量部のシリコーンオイルを含有する層に、活性化エネルギー線を照射することを特徴とする厚みが3μm以下のハードコート層を有するハードコート基材の製造方法。
IPC (4):
C09D 7/12 ,  B05D 7/24 301 ,  C09D 5/00 ,  C09D201/00
FI (4):
C09D 7/12 A ,  B05D 7/24 301 T ,  C09D 5/00 C ,  C09D201/00
F-Term (8):
4D075CA02 ,  4D075EA21 ,  4D075EB42 ,  4J038DL032 ,  4J038FA011 ,  4J038NA11 ,  4J038PA17 ,  4J038PC08

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