Pat

J-GLOBAL ID：200903018784807292

低次酸化チタンの製造方法

Inventor： 揚 修一 ,  松藤 充博 ,  阪口 剛司
Applicant, Patent owner： 住友シチックス株式会社
Agent (1)： 穂上 照忠
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992340056
Publication number (International publication number)：1994183736
Application date： Dec. 21, 1992
Publication date： Jul. 05, 1994
Summary：

【要約】【目的】黒色顔料等に用いられる低次の酸化チタンを安価に製造する方法の提供。【構成】四塩化チタンと水素を含むガスをノズル(1a)から供給し、酸化剤(酸素、空気、水など)を含むガスをノズル(1c)から供給して反応管(3)内で 600°C以上で反応させる。酸化剤に含まれる酸素原子に対する四塩化チタンのモル比(TiCl4/O) は 0.5よりも大きくする。原料ガス中の水素の量を、水素に対して酸化剤に含まれる酸素原子がモル比 (O/H2) で4未満となるようにすれば、一層好ましい。【効果】製造コストが安く、超微粒のものを含む任意の粒径の低次酸化チタンを得ることができる。粉末は黒色顔料、蒸着材料などとして好適である。

Claim (excerpt)：

四塩化チタンと下記 (1)式を満たす酸化剤と水素とを 600°C以上で反応させることを特徴とする低次酸化チタンの製造方法。 TiCl4/O(酸化剤に含まれる酸素原子)> 0.5 ・・・ (1)但し、 (1)式の左辺はモル比を表す。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 特開昭57-205322