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J-GLOBAL ID：200903018790359650

露光用マスク

Inventor： 佐藤 隆
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 木村 高久
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991309425
Publication number (International publication number)：1993142749
Application date： Nov. 25, 1991
Publication date： Jun. 11, 1993
Summary：

【要約】【目的】 本発明は、実際の集積回路パターン中に適用して効果を得ることができ、位相シフト効果を最大限に発揮することのできる露光マスクを提供することを目的とする。【構成】 本発明の露光マスクでは、透過部を4つの領域に区分し、この透過部を第1の領域と、第1の領域に対して90度の位相差をもつ第2の領域と、第1の領域に対して180度の位相差をもつ第3の領域と、第1の領域に対して270度の位相差をもつ第4の領域とし、透過部で異なる位相の領域が隣接する場合にはこれらの領域の位相差が90度であり、遮光部を挟んで異なる位相の領域が隣接する場合にはこれらの領域の位相差が180度であるように構成している。

Claim (excerpt)：

透過部と遮光部とを含み、パターン転写を行うための露光マスクにおいて、前記透過部を透過光の位相が異なるように構成した4つの領域に区分し、前記透過部が、第1の領域と、第1の領域に対して90度の位相差をもつ第2の領域と、第1の領域に対して180度の位相差をもつ第3の領域と、第1の領域に対して270度の位相差をもつ第4の領域とを含み、透過部で異なる位相の領域が隣接する場合にはこれらの領域の位相差が90度であり、遮光部を挟んで異なる位相の領域が隣接する場合にはこれらの領域の位相差が180度であるように構成されていることを特徴とする露光用マスク。

IPC (2)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027

FI (2)：

H01L 21/30 301 P ,  H01L 21/30 311 W

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開平3-006559
  
• 特開平2-034854
  
• 特開平3-006559
  
• 特開平2-034854