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J-GLOBAL ID：200903018837252778
紫外光応答性薄膜素子
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
池内 寛幸 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993128754
Publication number (International publication number)：1994341900
Application date： May. 31, 1993
Publication date： Dec. 13, 1994
Summary：
【要約】【目的】 紫外光の吸収によりイオン解離を起こすことにより着色現象を発現することにより簡便で耐光性に優れ、繰り返し特性にも優れた紫外光応答性薄膜を提供する。【構成】 透光性電極としてITO薄膜12を有したガラス基板11を薄膜素子を支える支持体とし、その支持体層の上に波長400nm 以下の紫外領域の光を吸収することによりイオン解離を起こすロイコ色素部を有する高分子ゲル(化1)をブレードコーティングもしくはスピンコーティング法により形成する。この高分子ゲル層13の上にITO薄膜14を有した対向する様にガラス基板15を気泡等の隙間が発生しないように接触させ、スペーサー17により高分子ゲル層の厚みを調節する。さらにその外側周囲を封止剤で封止する。【化1】
Claim (excerpt)：
一対の透光性電極層を有する透光性基板が、電極層を対向するように設置されたセル中に、紫外光照射によりイオン解離する官能基を有する高分子化合物を含む高分子ゲルを封止した紫外光応答性薄膜素子。
IPC (2)：
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