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J-GLOBAL ID：200903018855461015

低濃度有機溶剤ガス処理装置

Inventor： 川田 和之
Applicant, Patent owner： 東洋紡績株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995098753
Publication number (International publication number)：1996290035
Application date： Apr. 24, 1995
Publication date： Nov. 05, 1996
Summary：

【要約】【目的】 低濃度有機溶剤ガスを高濃度の有機溶剤ガスに濃縮し、該濃縮ガスを触媒燃焼処理で安全かつ簡便に処理する方法の提供。【構成】 低濃度の有機溶剤ガスを吸着体に吸着後、脱着して高濃度ガスとし、該高濃度のガスを触媒燃焼装置で酸化分解する際に触媒燃焼装置の出口温度を検知して、それに応じて吸着体へ導入する再生気体の温度を調節する低濃度有機溶剤ガスの処理方法。【効果】 本発明により、濃縮ガスの濃度が触媒燃焼装置で処理できる濃度範囲を越えても安全かつ簡便に処理できる。

Claim (excerpt)：

低濃度の有機溶剤ガスを吸着体に通気吸着させ有機溶剤を吸着除去した後、小量の加熱された再生気体により吸着された有機溶剤を脱着し、これにより低濃度有機溶剤ガスを高濃度ガスとして取り出しこの取り出された濃縮ガスを触媒燃焼装置で酸化分解する際に、該触媒燃焼装置の出口温度を感知し、それに応じて吸着体へ導入する再生気体の温度を調整することを特徴とする低濃度有機溶剤ガスの処理方法。

IPC (3)：

B01D 53/44 ,  B01D 53/81 ,  B01D 53/04 ZAB

FI (2)：

B01D 53/34 117 A ,  B01D 53/04 ZAB G

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 溶剤含有ガスの触媒燃焼装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-292936   Applicant：三菱重工業株式会社, 高菱エンジニアリング株式会社
• 特開昭53-129174