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J-GLOBAL ID:200903018910678380

表面欠陥検査方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 田渕 経雄
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999237958
Publication number (International publication number):2001059717
Application date: Aug. 25, 1999
Publication date: Mar. 06, 2001
Summary:
【要約】【課題】 欠陥の検出が可能な表面欠陥検査方法の提供。【解決手段】 明暗パターン1bを有した光源1を検査表面4に写し出してカメラ2を介してコンピュータ3に画像取込みする工程と、取り込んだ画像の濃度ヒストグラムを作成する工程と、画像の濃度ヒストグラムにより欠陥6を検出する工程と、を有する表面欠陥検査方法。
Claim (excerpt):
明暗パターンを有した光源を検査表面に写し出してカメラを介してコンピュータに画像取込みする工程と、取り込んだ画像の濃度ヒストグラムを作成する工程と、前記画像の濃度ヒストグラムにより欠陥を抽出する工程と、を有する表面欠陥検査方法。
IPC (2):
G01B 11/30 ,  G01N 21/88
FI (3):
G01B 11/30 A ,  G01N 21/88 J ,  G01N 21/88 Z
F-Term (40):
2F065AA49 ,  2F065BB05 ,  2F065CC11 ,  2F065CC31 ,  2F065FF42 ,  2F065GG02 ,  2F065GG15 ,  2F065HH06 ,  2F065HH07 ,  2F065HH12 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ08 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL41 ,  2F065LL49 ,  2F065QQ00 ,  2F065QQ03 ,  2F065QQ06 ,  2F065QQ08 ,  2F065QQ21 ,  2F065QQ24 ,  2F065QQ28 ,  2F065QQ29 ,  2F065QQ32 ,  2F065QQ34 ,  2F065QQ42 ,  2F065QQ43 ,  2F065RR05 ,  2F065SS02 ,  2F065SS13 ,  2G051AA89 ,  2G051AB07 ,  2G051AB12 ,  2G051BB07 ,  2G051CA03 ,  2G051CA04 ,  2G051EA11 ,  2G051EA16 ,  2G051EB01 ,  2G051EC02
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)

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