Pat
J-GLOBAL ID:200903018910678380
表面欠陥検査方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
田渕 経雄
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999237958
Publication number (International publication number):2001059717
Application date: Aug. 25, 1999
Publication date: Mar. 06, 2001
Summary:
【要約】【課題】 欠陥の検出が可能な表面欠陥検査方法の提供。【解決手段】 明暗パターン1bを有した光源1を検査表面4に写し出してカメラ2を介してコンピュータ3に画像取込みする工程と、取り込んだ画像の濃度ヒストグラムを作成する工程と、画像の濃度ヒストグラムにより欠陥6を検出する工程と、を有する表面欠陥検査方法。
Claim (excerpt):
明暗パターンを有した光源を検査表面に写し出してカメラを介してコンピュータに画像取込みする工程と、取り込んだ画像の濃度ヒストグラムを作成する工程と、前記画像の濃度ヒストグラムにより欠陥を抽出する工程と、を有する表面欠陥検査方法。
IPC (2):
FI (3):
G01B 11/30 A
, G01N 21/88 J
, G01N 21/88 Z
F-Term (40):
2F065AA49
, 2F065BB05
, 2F065CC11
, 2F065CC31
, 2F065FF42
, 2F065GG02
, 2F065GG15
, 2F065HH06
, 2F065HH07
, 2F065HH12
, 2F065JJ03
, 2F065JJ08
, 2F065JJ26
, 2F065LL41
, 2F065LL49
, 2F065QQ00
, 2F065QQ03
, 2F065QQ06
, 2F065QQ08
, 2F065QQ21
, 2F065QQ24
, 2F065QQ28
, 2F065QQ29
, 2F065QQ32
, 2F065QQ34
, 2F065QQ42
, 2F065QQ43
, 2F065RR05
, 2F065SS02
, 2F065SS13
, 2G051AA89
, 2G051AB07
, 2G051AB12
, 2G051BB07
, 2G051CA03
, 2G051CA04
, 2G051EA11
, 2G051EA16
, 2G051EB01
, 2G051EC02
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
-
表面平滑性の検査方法及びその装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-220728
Applicant:タキロン株式会社
-
構築面の質を判定する装置及びその方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-059648
Applicant:ビック-ガルトナー・ゲーエムベーハー
-
被検物の欠点検査方法および検査装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-115543
Applicant:旭硝子株式会社
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