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J-GLOBAL ID：200903018912076255
微細パターン形成用の原版
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
石川 泰男 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992322106
Publication number (International publication number)：1994175340
Application date： Dec. 01, 1992
Publication date： Jun. 24, 1994
Summary：
【要約】【目的】 優れた耐久性を有し、被加工物に高い精度で繰り返し微細パターンを形成することのできる微細パターン形成用の原版を提供する。【構成】 少なくとも表面が導電性を示す基板表面に絶縁性のマスキング層を所定パターンで形成し、このマスキング層およびマスキング層非形成部分を覆うように剥離性樹脂層を形成して原版とする。
Claim (excerpt)：
少なくとも表面が導電性を示す基板と、該基板の表面に所定パターンで形成された絶縁性のマスキング層と、該マスキング層および前記基板の前記マスキング層非形成部分を覆うように形成された剥離性樹脂層とを備えることを特徴とする微細パターン形成用の原版。
Patent cited by the Patent：
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