Pat

J-GLOBAL ID：200903018944167856

気液接触装置および気液接触システム

Inventor： 石 川 勝 廣 ,  田 口 健 二
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 佐藤 一雄 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993077159
Publication number (International publication number)：1994285482
Application date： Apr. 02, 1993
Publication date： Oct. 11, 1994
Summary：

【要約】【目的】 被処理水中に気体を効率良く溶解させて、気液接触反応を効率良く行なうこと。【構成】 流入部6aと流出部6bとを有する気液接触槽6内に、気液接触ユニット7a,7bが装着されている。気液接触ユニット7a,7bは中空状体8a,8bを多数配置してなり、中空状体8a,8bは孔径1μm以下の透過膜を中空支持体表面に設けて形成されている。中空状体8a,8bは気体供給基材9a,9bに接続され、気体供給基材9a,9bから中空状体8a,8b内に気体が供給される。

Claim (excerpt)：

流入部と流出部とを有する気液接触槽と、この気液接触槽内に装着された気液接触ユニットとを備え、気液接触ユニットは孔径1μm以下の透過膜を中空支持体表面に設けてなる中空状体を有し、前記中空状体に各中空状体内に気体を供給する気体供給基材を接続したことを特徴とする気液接触装置。

IPC (3)：

C02F 1/78 ,  C02F 1/74 ,  B01D 63/06