Pat
J-GLOBAL ID：200903018946666590

顕微鏡装置

Inventor：
安田 仲宏

About 安田 仲宏

, 
本間 義浩

About 本間 義浩


Applicant, Patent owner：
独立行政法人放射線医学総合研究所

About 独立行政法人放射線医学総合研究所

, 
セイコープレシジョン株式会社

About セイコープレシジョン株式会社


Agent (1)： 松田 和子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002097499
Publication number (International publication number)：2003295066
Application date： Mar. 29, 2002
Publication date： Oct. 15, 2003
Summary：
【要約】【課題】 ラインセンサを使用して拡大画面を撮像する顕微鏡装置において、被写体を迅速に撮像すると共に、測定領域を迅速かつ容易に設定できるようにする。【解決手段】 撮像範囲の幅が極めて狭く長さが長い直線状のラインセンサ4を使用して、連続的に移動する試料1を撮像することによって、所定の測定領域11の撮像を迅速に行なうことができる。2次元的な広がりを撮像可能な2次元CCDセンサ332を使用することによって、試料内の撮像領域を迅速かつ容易に設定できる。
Claim (excerpt)：
試料を拡大する顕微鏡と、上記拡大した試料をライン画像として撮像するラインセンサと、上記ラインセンサの撮像位置を撮像する2次元電荷結合素子と、上記ラインセンサで撮像したライン画像から上記試料の画像を作成する画像処理手段とを備えることを特徴とする顕微鏡装置。
IPC (5)：
G02B 21/36 ,  A61B 19/00 501 ,  G01T 1/02 ,  G01T 1/105 ,  G02B 7/28
FI (5)：
G02B 21/36 ,  A61B 19/00 501 ,  G01T 1/02 B ,  G01T 1/105 ,  G02B 7/11 J
F-Term (14)：
2G088BB01 ,  2H051AA12 ,  2H051CA02 ,  2H052AB05 ,  2H052AB10 ,  2H052AB24 ,  2H052AC04 ,  2H052AC26 ,  2H052AD02 ,  2H052AD09 ,  2H052AD18 ,  2H052AF02 ,  2H052AF14 ,  2H052AF21
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM