Pat

J-GLOBAL ID：200903018951417450

半導体解析装置

Inventor： 利 光 功 二 ,  古 賀 伸 廣 ,  南 和 宏
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 佐藤 一雄 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997105820
Publication number (International publication number)：1998303266
Application date： Apr. 23, 1997
Publication date： Nov. 13, 1998
Summary：

【要約】【課題】 特異パターンの自動認識及び該当ロット、ウェーハ番号の自動抽出により、解析時間を短縮する。また、前工程と異常工程・異常装置を早期発見して、歩留まりを早期回復し、製造ロスを削減する。【解決手段】 特異パターン自動検索手段1は、所定のロットについてウェーハを解析して、特徴を抽出して特異パターンを自動検出する。パターン自動抽出手段2は、特異パターン自動検索手段1で得られた特異パターン(特徴抽出)に基づいて、これと類似する又は一致するパターンを自動検出し、該当するロット番号・ウェーハ番号を得る。さらに、マシン共通性ツール3は、得られた特異パターンに該当するウェーハ又はロットが、どの製造装置又は製造工程によるものかを特定する。

Claim (excerpt)：

所望の特異パターンを検索するための検索条件を指定する検索条件指定手段と、前記検索条件指定手段により指定された前記検索条件に従って、複数の被解析ウェーハのパターンを解析し、その解析結果を収集する積み重ね手段と、前記積み重ね手段により積み重ねられた前記解析結果に基づいて特徴抽出することにより特異パターンを求める特徴抽出手段とを備えた半導体解析装置。