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J-GLOBAL ID：200903018983457470

化学増幅系レジスト組成物

Inventor： 並木 崇久 ,  渡部 慶二 ,  矢野 映
Applicant, Patent owner： 富士通株式会社
Agent (1)： 青木 朗 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992203610
Publication number (International publication number)：1994051515
Application date： Jul. 30, 1992
Publication date： Feb. 25, 1994
Summary：

【要約】【目的】 化学増幅系レジスト組成物において、残存溶剤を完全に除去し高解像度のレジストパターンを得ることを目的とする。【構成】 化学増幅系レジスト組成物において、基材樹脂100重量部、露光により酸を発生する酸発生剤1〜20重量部および100°C〜150°Cの範囲内の沸点を有し、かつ室温で液体の有機溶剤400〜1000重量部を含んでなるように構成する。このようなレジスト組成物を被加工物上に塗布してレジスト膜を形成し、該レジスト膜を50°C以上、120°C以下の温度でベーキングして溶剤を除去し、選択露光し、有機溶剤で現像するように構成する。

Claim (excerpt)：

基材樹脂100重量部、露光により酸を発生する酸発生剤1〜20重量部および100°C〜150°Cの範囲内の沸点を有し、かつ室温で液体の有機溶剤400〜1000重量部を含んでなる化学増幅系レジスト組成物。

IPC (6)：

G03F 7/038 505 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/039 501 ,  G03F 7/38 501 ,  G03F 7/40 ,  H01L 21/027