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J-GLOBAL ID：200903019052462884

パターン形成用導電性組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法

Inventor： 渡部 慶二 ,  米田 泰博 ,  丸山 隆司 ,  矢野 恵子 ,  中村 富雄 ,  清水 茂 ,  斉藤 隆司
Applicant, Patent owner： 富士通株式会社 ,  日東化学工業株式会社
Agent (1)： 青木 朗 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992157953
Publication number (International publication number)：1994003813
Application date： Jun. 17, 1992
Publication date： Jan. 14, 1994
Summary：

【要約】【目的】 パターン形成におけるチャージアップによる位置ずれおよび寸法誤差等の防止を目的とする。【構成】 前記目的達成のため、本発明はパターン形成用導電性組成物および該組成物を用いたパターン形成方法を提供するものであり、この組成物は、(a)スルホン基の含有率が芳香環に対して20〜80%のスルホン化ポリアニリン類0.1〜20重量部、(b)溶剤100重量部、および(c)アミン類及び/又は四級アンモニウム塩類0.01〜30重量部を含んでなり、更に所望により、(d)成分として下記の(A)及び/又は(B):(A)上記(b)溶剤に可溶な高分子化合物(B)界面活性剤0〜200重量部を含んでなる。

Claim (excerpt)：

(a)スルホン基の含有率が芳香環に対して20〜80%のスルホン化ポリアニリン類0.1〜20重量部、(b)溶剤100重量部、および(c)アミン類及び/又は四級アンモニウム塩類0.01〜30重量部を含んでなるパターン形成用導電性組成物。

IPC (5)：

G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 504 ,  G03F 7/004 521 ,  G03F 7/26 511 ,  H01L 21/265

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

• 特開平3-064757
  
• 特開平3-083395
  
• 特開昭61-208050
  
• 特開昭63-183437
  
• 特開平2-309635
  
• 特開平3-020024
  
• 特開平3-075370
  
• 特開平4-349614