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J-GLOBAL ID：200903019112447189

粒状シリコン原料の製造方法

Inventor： 有賀 昌三 ,  田中 雅文
Applicant, Patent owner： 東芝セラミックス株式会社
Agent (1)： 高 雄次郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992152710
Publication number (International publication number)：1993319990
Application date： May. 20, 1992
Publication date： Dec. 03, 1993
Summary：

【要約】【目的】 不純物を含む粒状シリコン原料に純化処理を施して高純度の粒状シリコン原料を得る。【構成】 粒径0.1μm以上のシリコン2が収容された筒状容器1内に、シリコン及び二酸化珪素の両者を溶解可能な溶解処理液4を導入して、収容された粒状シリコンすべてを実質的に浸漬状態として溶解洗浄処理を行い、ついで実質的に浸漬状態を維持したまま溶解処理液の排出及び洗浄液の導入を行って洗浄した後、粒状シリコンを乾燥することにより、粒状シリコンを筒状容器内に収容された状態で純化処理して製造する。

Claim (excerpt)：

粒径0.1μm以上の粒状のシリコンが収容された筒状容器内に、シリコンおよび二酸化珪素の両者を溶解可能な溶解処理液を導入して、収容された粒状シリコンすべてを実質的に浸漬状態として溶解洗浄処理を行い、ついで実質的に浸漬状態を維持したまま溶解処理液の排出および洗浄液の導入をおこなって洗浄をした後、粒状シリコンを乾燥することを特徴とする粒状シリコン原料の製造方法。

IPC (3)：

C30B 29/06 502 ,  C30B 15/00 ,  H01L 21/208

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

• 特開昭60-060913
  
• 特開昭62-072512
  
• 特開昭62-136825
  
• 特開平3-050191
  
• 特開昭59-162200