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J-GLOBAL ID:200903019113631820

反射防止膜及びこれを利用した光学部材

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 岩見谷 周志
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000374881
Publication number (International publication number):2002174702
Application date: Dec. 08, 2000
Publication date: Jun. 21, 2002
Summary:
【要約】【課題】 耐汚染性、易拭取り除去性、耐擦傷性、撥水性などの性能を有し、これらの性能が長期に持続する反射防止膜を提供すること、及びこれを支持基材上に有し、同様の性能を有する光学部材を提供すること。【解決手段】 二酸化ケイ素系無機層を有する単層構造又は複層構造の反射防止層と、表面層として設けられた汚染防止層とからなる反射防止膜であって、前記汚染防止層が特定の含フッ素シラザン化合物の硬化物からなることを特徴とする反射防止膜、及びこの反射防止膜を支持基材上に有する光学部材。
Claim (excerpt):
二酸化ケイ素系無機層を有する単層構造又は複層構造の無機系反射防止層と、表面層として設けられた汚染防止層とからなる反射防止膜であって、前記汚染防止層が下記式(1)[(RfQ)aSi(R1)b(NR2)4-a-b/2]l・[(RfQ)cSi(R1)dO4-c-d/2]m・[(RfQ)eSi(R1)f(NR2)g/2Oh/2]n (1)〔ここで、R1は、それぞれ同一でも異なっていてもよく、水素原子又は非置換若しくは置換の1価炭化水素基であり;R2は、同一でも異なっていてもよく、水素原子又はアルキル基であり;Rfは、同一でも異なっていてもよく、炭素原子数1〜20個のパーフルオロアルキル基若しくは炭素原子数2〜35個のパーフルオロアルキルエーテル基であり;Qは、炭素原子数2〜5の2価の有機基であり;各第1の構成単位において独立に、aは1〜3の整数であり、bは0〜2の整数であり、但し、a+bは1〜3の整数であり、各第2の構成単位において独立に、cは0〜2の整数であり、dは1〜3の整数であり、但しc+dは1〜3の整数であり、各第3の構成単位において独立に、e及びfは0〜2の整数であり、g及びhは1又は2の整数であり、但し、e+f+g+h=4であり;l,m及びnはそれぞれ1以上の数である〕で示される含フッ素シラザン化合物の硬化物からなることを特徴とする反射防止膜。
IPC (4):
G02B 1/11 ,  B32B 7/02 103 ,  B32B 9/00 ,  C08G 77/62
FI (4):
B32B 7/02 103 ,  B32B 9/00 A ,  C08G 77/62 ,  G02B 1/10 A
F-Term (41):
2K009AA08 ,  2K009AA15 ,  2K009BB24 ,  2K009CC03 ,  2K009CC24 ,  2K009CC26 ,  2K009CC42 ,  2K009DD02 ,  2K009DD04 ,  2K009EE05 ,  4F100AA20 ,  4F100AA20A ,  4F100AA20B ,  4F100AA21 ,  4F100AH05C ,  4F100AH06C ,  4F100AK25 ,  4F100AK41 ,  4F100AR00C ,  4F100AT00D ,  4F100BA02 ,  4F100BA03 ,  4F100BA04 ,  4F100BA07 ,  4F100BA10B ,  4F100BA10C ,  4F100BA10D ,  4F100BA13 ,  4F100EH46 ,  4F100EH66 ,  4F100GB41 ,  4F100JB06 ,  4F100JK14 ,  4F100JL00 ,  4F100JL06 ,  4F100JL06C ,  4F100JN06 ,  4F100JN06A ,  4F100JN06B ,  4J035JA03 ,  4J035LB01
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
  • 光学素子の表面改質方法
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平6-083410   Applicant:セイコーエプソン株式会社, 株式会社オプトロン
Cited by examiner (1)
  • 光学素子の表面改質方法
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平6-083410   Applicant:セイコーエプソン株式会社, 株式会社オプトロン

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