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J-GLOBAL ID：200903019120689388

防汚剤組成物、防汚処理基材、並びに基材の防汚処理方法

Inventor：
政 岡 滋

About 政 岡 滋

, 
松 岡 巌

About 松 岡 巌


Applicant, Patent owner：
中国塗料株式会社

About 中国塗料株式会社


Agent (1)： 鈴木 俊一郎 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999194692
Publication number (International publication number)：2001019848
Application date： Jul. 08, 1999
Publication date： Jan. 23, 2001
Summary：
【要約】 (修正有)【課題】下記式[I]:[式[I]中、R5はアルキル基またはフェニル基を示し、R1、R2およびR3は、それぞれ独立にアルキル基、フェニル基またはX:「(CH2)pO(C2H4O)q(C3H6O)rR4」を示し、mは1〜1000の数を示し、nは0〜50の数を示す。但し、nが0のとき、R1および/またはR2は上記Xである。]で表されるオキシアルキレン基含有オルガノポリシロキサンを含有し、該オルガノポリシロキサンは、エチレンオキシ基(C2H4O)に基づくHLBEO=[(オルガノポリシロキサン中のC2H4Oの合計量(重量%)/5]が1〜2.5であり、かつプロピレンオキシ基(C3H6O)に基づくHLBPO =[(オルガノポリシロキサン中のC3H6Oの合計量(重量%)/5]が1〜10である防汚剤組成物、その防汚被膜、該被膜にて基材が被覆された防汚処理基材、並びに基材の防汚方法。【効果】防汚性に優れる。
Claim (excerpt)：
下記式[I]:【化1】[式[I]中、R5はアルキル基またはフェニル基を示し、R1、R2およびR3は、それぞれ独立にアルキル基、フェニル基またはX:「(CH2)pO(C2H4O)q(C3H6O)rR4(R4は、水素原子またはそれぞれ炭素数が1〜15のアルキル基、アリール基、アラルキル基またはアシル基を示し、pは0〜5の数を示し、qおよびrはそれぞれ独立に1〜50の数を示す。)」を示し、mは1〜1000の数を示し、nは0〜50の数を示す。但し、nが0のとき、R1および/またはR2は上記Xである。]で表されるオキシアルキレン基含有オルガノポリシロキサンを含有し、該オルガノポリシロキサンは、上記オルガノポリシロキサンのエチレンオキシ基(C2H4O)に基づく下記式(A)で表される親水性親油性バランスHLBEOが1〜2.5であり、かつプロピレンオキシ基(C3H6O)に基づく下記式(B)で表される親水性親油性バランスHLBPOが1〜10であることを特徴とする防汚剤組成物;(A):HLBEO =[(オルガノポリシロキサン中のエチレンオキシ基(C2H4O)の合計量(重量%)/5](B):HLBPO =[(オルガノポリシロキサン中のプロピレンオキシ基(C3H6O)の合計量(重量%)/5]。
IPC (20)：
C08L 83/12 ,  A01N 31/04 ,  A01N 43/40 101 ,  A01N 43/80 102 ,  A01N 55/02 ,  A01N 55/08 ,  A01N 59/20 ,  C08K 3/22 ,  C08K 5/16 ,  C08K 5/21 ,  C08K 5/3415 ,  C08K 5/3492 ,  C08K 5/36 ,  C08K 5/378 ,  C08K 5/40 ,  C08K 5/47 ,  C08K 5/55 ,  C09D 5/16 ,  C09D183/04 ,  C09K 3/00 112
FI (21)：
C08L 83/12 ,  A01N 31/04 ,  A01N 43/40 101 E ,  A01N 43/80 102 ,  A01N 55/02 A ,  A01N 55/02 B ,  A01N 55/08 ,  A01N 59/20 Z ,  C08K 3/22 ,  C08K 5/16 ,  C08K 5/21 ,  C08K 5/3415 ,  C08K 5/3492 ,  C08K 5/36 ,  C08K 5/378 ,  C08K 5/40 ,  C08K 5/47 ,  C08K 5/55 ,  C09D 5/16 ,  C09D183/04 ,  C09K 3/00 112 F
F-Term (63)：
4H011AD01 ,  4H011BA04 ,  4H011BA06 ,  4H011BB06 ,  4H011BB09 ,  4H011BB10 ,  4H011BB13 ,  4H011BB14 ,  4H011BB16 ,  4H011BB18 ,  4H011BC19 ,  4H011DA17 ,  4H011DD01 ,  4H011DF03 ,  4H011DF04 ,  4H011DH07 ,  4H011DH18 ,  4H011DH25 ,  4H011DH26 ,  4J002CP181 ,  4J002DE096 ,  4J002ET007 ,  4J002ET017 ,  4J002EU027 ,  4J002EU187 ,  4J002EV047 ,  4J002EV086 ,  4J002EV147 ,  4J002EV167 ,  4J002EV327 ,  4J002EV347 ,  4J002EY017 ,  4J002FD206 ,  4J002FD207 ,  4J002GH01 ,  4J002GH02 ,  4J038DL031 ,  4J038DL051 ,  4J038GA02 ,  4J038HA066 ,  4J038HA216 ,  4J038HA296 ,  4J038HA356 ,  4J038HA376 ,  4J038JB18 ,  4J038JB24 ,  4J038JB27 ,  4J038JB36 ,  4J038JC02 ,  4J038JC06 ,  4J038JC07 ,  4J038JC18 ,  4J038JC37 ,  4J038JC38 ,  4J038KA02 ,  4J038NA02 ,  4J038NA05 ,  4J038NA06 ,  4J038PA01 ,  4J038PB02 ,  4J038PB05 ,  4J038PB07 ,  4J038PC10
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (6)
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