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J-GLOBAL ID：200903019144799281
水素貯蔵用高分子材料床
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
志賀 富士弥 (外1名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：1995507579
Publication number (International publication number)：1997501649
Application date： Jul. 22, 1994
Publication date： Feb. 18, 1997
Summary：
【要約】水素貯蔵装置2は、容器4と容器4内に配置された水素貯蔵床6とを有する。水素貯蔵床6は、直径1nm以下の多数の微小孔と水素化物を形成する金属10を少なくとも1つ埋め込んだ高分子材料8を含む。この装置は、光と熱により金属水素化物を分解して水素を解離させる手段と、貯蔵装置2の内外に水素を運搬する装置も含む。水素貯蔵床6は、未硬化の高分子材料8内に水素化物を形成する金属10を配置することによって形成することができる。水素が水素化物を形成する金属と結合し、金属水素化物を形成するのに十分な圧力下で水素を加え、金属水素化物を高分子材料8内で形成することができる。金属水素化物が解離する程度に水素圧力を下げ、高分子材料8を通って解離した水素が漏れ出ることによって、直径1nm以下の微小孔を多数形成することができる。高分子材料8を冷却することによって微小孔を高分子材料8に成形することができる。
Claim (excerpt)：
(a) 容器(4)と、 (b) 前記容器(4)内に設けられた水素貯蔵床(6)であって、前記水素貯蔵床(6)は、直径1nm未満の多数の微小孔を有する高分子材(8)を有するものである水素貯蔵床と、 (c) 前記高分子材(8)内に埋め込まれた、少なくとも1つの水素化物形成金属(10)と、 (d) 前記水素化物形成金属から形成された金属水素化物を分解して水素を解離させるための手段と、 (e) 前記容器(4)の内外に水素を運ぶための手段と、 を有することを特徴とする水素貯蔵装置(2)。
IPC (2)：
FI (2)：
C01B 3/00 B
, H01M 8/06 Z
