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J-GLOBAL ID：200903019146473650

露光方法及び露光装置

Inventor： 池本 和人
Applicant, Patent owner： ソニー株式会社
Agent (1)： 高月 亨
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992360385
Publication number (International publication number)：1994204112
Application date： Dec. 30, 1992
Publication date： Jul. 22, 1994
Summary：

【要約】【目的】 高い空間周波数成分が欠落する等の問題点を解決して、被露光材上における像(パターン)を正確に再現して所望のパターン露光を行うことを可能とした露光方法、及び露光装置の提供。【構成】 露光すべきパターンを予めフーリエ変換することによりマスクパターンを実空間のパターンから周波数空間のパターンに置き換えるか、あるいは光学系で置き換えを行い、該置き換えられたマスクパターン2を、光学系31によりフーリエ変換された周波数空間4に置き、再び光学系32により逆フーリエ変換して半導体ウェハー等の被露光材1上への露光を行う。

Claim (excerpt)：

被露光材上に露光すべきパターンを予めフーリエ変換することによりマスクパターンを実空間のパターンから周波数空間のパターンに置き換え、光学系によりフーリエ変換された周波数空間に該置き換えられたマスクパターンを置き、再び光学系により逆フーリエ変換して被露光材上への露光を行うことを特徴とする露光方法。

IPC (3)：

H01L 21/027 ,  G02B 27/42 ,  G03F 7/20 521