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J-GLOBAL ID：200903019151773077

X線発生装置

Inventor： 山中 清 ,  若元 郁夫 ,  浦野 晋
Applicant, Patent owner： 三菱重工業株式会社
Agent (1)： 光石 俊郎 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997304039
Publication number (International publication number)：1999144653
Application date： Nov. 06, 1997
Publication date： May. 28, 1999
Summary：

【要約】【課題】 電子ビームによる装置各部(X線ターゲットやX線取出窓等)の熱負荷の低減と電子ビームの有効利用とを図れるX線発生装置を提供する。【解決手段】 入射面を略凹型に形成したX線ターゲット23と、電子ビーム24をローレンツ力によりX線ターゲットに近づく方向に偏向してX線ターゲットに入射させると共に反射電子24a等をローレンツ力によりX線ターゲットに近づく方向に偏向してX線ターゲットに再入射させる電子ビーム偏向手段(磁場発生装置)とからなる電子ビーム再入射手段を設ける。或いは透過型の第1X線ターゲットと反射型の第2X線ターゲット(反射電子受熱部)とを有するX線ターゲット部と、電子ビームをローレンツ力により第1X線ターゲットに近づく方向に偏向させて第1X線ターゲットに入射させると共に反射電子をローレンツ力により第2X線ターゲットに近づく方向に偏向して第2X線ターゲットに再入射させる電子ビーム偏向手段(磁場発生装置)とからなる電子ビーム再入射手段を設ける。また電子ビーム形状を実際に又は見かけ上幅方向に長いリニア状とする。

Claim (excerpt)：

電子ビーム発生手段によって発生した電子ビームをX線ターゲットに入射してX線を発生するX線発生装置であって、X線ターゲットから放出された反射電子をローレンツ力により偏向させてX線ターゲットに再入射させる電子ビーム再入射手段を備えたことを特徴とするX線発生装置。

IPC (4)：

H01J 35/08 ,  H01J 35/14 ,  H01J 35/30 ,  H05G 1/00

FI (4)：

H01J 35/08 C ,  H01J 35/14 ,  H01J 35/30 ,  H05G 1/00 E