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J-GLOBAL ID：200903019164316864

マイクロ波導入装置及び表面処理方法

Inventor： 鈴木 伸昌
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 丸島 儀一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998077349
Publication number (International publication number)：1998233295
Application date： Sep. 13, 1993
Publication date： Sep. 02, 1998
Summary：

【要約】【課題】 基体の被処理面への均一なプラズマ処理を行う。【解決手段】 無終端の環状導波管の基体の被処理面に対向する同一平面に設けた多数のスリットよりマイクロ波を導入する。

Claim (excerpt)：

排気手段によりプラズマ発生室を減圧し、マイクロ波導波管を介して前記プラズマ発生室内にマイクロ波エネルギーを供給し、前記プラズマ発生室内にプラズマを発生させる装置に用いられるマイクロ波導入装置おいて、前記マイクロ波導波管には複数のスロットが前記プラズマ発生室側の基体の被処理面に対向した同一平面に形成されており、前記マイクロ波導波管が環状導波管であることを特徴とするマイクロ波導入装置。

IPC (3)：

H05H 1/46 ,  C23C 16/50 ,  H01L 21/205

FI (3)：

H05H 1/46 B ,  C23C 16/50 ,  H01L 21/205