Pat

J-GLOBAL ID：200903019205467686

照射野形成装置

Inventor： 池田 直昭
Applicant, Patent owner： 三菱重工業株式会社
Agent (1)： 光石 俊郎 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996313200
Publication number (International publication number)：1998151211
Application date： Nov. 25, 1996
Publication date： Jun. 09, 1998
Summary：

【要約】【課題】 腫瘍へのビーム照射範囲及びビームの到達深さ・奥行きを細かく分割・制御することにより、正常組織部に対する付与線量を低減することを目的とする。【解決手段】 腫瘍12へのビーム照射範囲及びビームの到達深さ・奥行きを細かく分割・制御するための手段として、腫瘍12の奥行き方向への拡大ブラッグピーク幅22を決定していたリッジフィルタに代えて、この拡大ブラッグピーク幅22を任意に変えることができる可変レンジフィルタ21を採用するとともに、ビームの横断面方向に拡大ブラッグピーク幅22の値に対応してビーム照射範囲を細かく分割することが可能なマルチホールコリメータ20を採用したことを特徴とする。

Claim (excerpt)：

腫瘍へのビーム照射範囲及びビームの到達深さ・奥行きを細かく分割・制御するための手段として、腫瘍の奥行き方向への拡大ブラッグピーク幅を決定していたリッジフィルタに代えて、この拡大ブラッグピーク幅を任意に変えることができる可変レンジフィルタを採用するとともに、ビームの横断面方向に拡大ブラッグピーク幅の値に対応してビーム照射範囲を細かく分割することが可能なマルチホールコリメータを採用したことを特徴とする照射野形成装置。

IPC (3)：

A61N 5/10 ,  G21K 1/02 ,  G21K 5/04

FI (3)：

A61N 5/10 N ,  G21K 1/02 R ,  G21K 5/04 A