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J-GLOBAL ID：200903019207965900

微孔質の粒子を乾燥及び製造する方法

Inventor： フリートヘルム タイヒ ,  ハイナー シェリング ,  ヘルベルト ケスター ,  ホルスト クラッツァー ,  ヴォルフガング ライヒェルト ,  マルティン ガル ,  ベルント ツィーグラー
Applicant, Patent owner： ビーエーエスエフ アクチェンゲゼルシャフト
Agent (1)： 矢野 敏雄 (外4名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2000535432
Publication number (International publication number)：2002505940
Application date： Mar. 11, 1999
Publication date： Feb. 26, 2002
Summary：

【要約】微孔質の、液体含有粒子を乾燥する方法において、乾燥すべき液体含有粒子を移動床として連続的に乾燥液体内に供給し、その際該流体の界面張力を該液体の室温における界面張力に比較して、該液体の近臨界〜超臨界圧で、室温での界面張力の有利には0〜1/10、特に0〜1/20の範囲の値に減少させる。本発明はまた、微孔質の、細孔液体含有粒子を製造し、粒子内の細孔液体を流体と交換しかつ流体含有粒子を乾燥することにより微孔質の、三次元的に架橋した粒子の製造方法に関する。

Claim (excerpt)：

微孔質の、液体含有粒子を乾燥する方法において、乾燥すべき流体含有粒子を移動床として向流で乾燥液体に供給し、その際該流体の界面張力を該流体の室温における界面張力に比較して、該流体の近臨界〜超臨界圧で、室温での界面張力の有利には0〜1/10、特に0〜1/20の範囲の値に減少させることを特徴とする、微孔質の粒子を乾燥する方法。

IPC (2)：

B01D 12/00 ,  C01B 33/158

FI (2)：

B01D 12/00 ,  C01B 33/158

F-Term (14)：

4D056EA01 ,  4D056EA03 ,  4D056EA08 ,  4G072AA28 ,  4G072CC05 ,  4G072CC10 ,  4G072HH19 ,  4G072JJ12 ,  4G072JJ38 ,  4G072JJ47 ,  4G072JJ50 ,  4G072MM31 ,  4G072MM40 ,  4G072QQ20

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

• 特開昭62-087855
  
• 特許第3535829号
  
• エアロゲルの製造方法及びその装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-268435   Applicant：オルガノ株式会社, シーアイ化成株式会社
• ゾル・ゲル法製多孔質物体の臨界未満乾燥法
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願平8-508188   Applicant：矢崎総業株式会社
• 金属を回収するための溶媒含浸架橋マトリックスの使用
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願平8-518884   Applicant：アライドシグナル・インコーポレーテッド
• 堅い多孔質炭素構造体、その製造方法、使用方法、及びそれを含有する生成物
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願平9-541140   Applicant：ハイピリオンカタリシスインターナショナルインコーポレイテッド