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J-GLOBAL ID：200903019232467094

紫外線処理方法

Inventor： 坂元 弘実 ,  細谷 浩二
Applicant, Patent owner： 日本電池株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996118338
Publication number (International publication number)：1997278915
Application date： Apr. 15, 1996
Publication date： Oct. 28, 1997
Summary：

【要約】【課題】 銀ペーストが塗布されたリードフレームやプリント基板等の被処理物を紫外線処理する場合には、銀ペーストの酸化が生じるため、紫外線強度,処理温度,オゾン濃度のコントロールを行い、また、銀の酸化が発生する前に処理を止める必要があるが、紫外線ランプの特性は経時変化するため処理条件のコントロールは極めて難しく、処理が不十分のまま終わるという問題があった。【構成】 銀ペーストが塗布されたリードフレームやプリント基板等の被処理物の表面に付着した有機化合物被膜を紫外線とオゾンにより分解、改質を行った後、この被処理物を100°C以上で加熱する紫外線処理方法。

Claim (excerpt)：

銀ペーストが塗布されたリードフレームやプリント基板等の被処理物の表面に付着した有機化合物被膜を紫外線とオゾンにより分解、改質を行った後、前記被処理物を100°C以上で加熱することを特徴とする紫外線処理方法。

IPC (2)：

C08J 7/00 304 ,  C08J 7/00 301

FI (2)：

C08J 7/00 304 ,  C08J 7/00 301