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J-GLOBAL ID：200903019238582855

投影露光装置及び露光方法

Inventor： 西 健爾
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995220444
Publication number (International publication number)：1996055794
Application date： Nov. 28, 1990
Publication date： Feb. 27, 1996
Summary：

【要約】【課題】マスク上の回路パターンの配列の自由度を向上させるとともに、投影光学系の投影視野よりも大きな回路パターンと投影視野よりも小さな回路パターンとを効率的に露光処理する。【解決手段】マスク上の矩形領域内に形成された回路パターンの像を円形の投影視野を有する投影光学系を介して感光基板上に露光する際、マスク上の回路パターンが形成された矩形領域が投影光学系の円形投影視野に包含されるときはステップアンドリピート方式の静止露光動作を実行し、マスク上の矩形領域のサイズが円形投影視野よりも大きいときはステップアンドスキャン方式の走査露光動作を実行するように選択する。

Claim (excerpt)：

マスクに形成された回路パターンを照明光で照射する照明手段と、感光基板上の複数の被露光領域の1つに前記マスクの回路パターンの像を投影する投影光学系と、前記マスクを保持して少なくとも第1方向に一次元移動可能なマスクステージと、前記感光基板を保持して前記第1方向とこれに直交した第2方向とに二次元移動可能な基板ステージとを備えた装置において、前記回路パターンの前記感光基板上の各被露光領域に対する露光動作を、前記マスクステージを静止させて基板ステージをステップ移動させるステップ・アンド・リピート方式で実行するか、前記マスクステージと基板ステージとを前記投影光学系の投影視野に対して同時に前記第1方向に相対走査させるとともに前記基板ステージをステップ移動させるステップ・アンド・スキャン方式で実行するかを選択的に制御する手段を設けたことを特徴とする投影露光装置。

IPC (2)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (2)：

H01L 21/30 518 ,  H01L 21/30 514 Z