洗浄剤組成物

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：青木朗 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992205460
Publication number (International publication number)：1994049484
Application date： Jul. 31, 1992
Publication date： Feb. 22, 1994
Summary：

【要約】【目的】皮膚刺激が少なく、すすぎ時の皮膚のぬめり感が少なく、乾燥後の皮膚にサッパリした感触を残す洗浄剤組成物を提供する。【構成】式(I)のポリオキシエチレン脂肪酸アミドエーテルサルフェート化合物:【化1】〔式(I)中、R1 =C7 -17アルキル、又はアルケニル基、M1 =アンモニウム基、アルカリ金属、又はアルカリ土類金属原子、或いはアルカノールアミン、又は塩基性アミノ酸のカチオン性残基、m=M1 の原子、又は基の価数に等しい整数、n=2〜20〕と、式(II)のアルキルN-カルボキシエチル-N-ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイン化合物:【化2】〔式(II)中、R2 =C7 -17アルキル、又はアルケニル基、M2 =アンモニウム基、アルカリ、又はアルカリ土類金属原子、或いはアルカノールアミン、又は塩基性アミノ酸のカチオン性残基〕との配合物を含有する洗浄剤組成物。

Claim (excerpt)：

下記一般式(I)で示されるポリオキシエチレン脂肪酸アミドエーテルサルフェート化合物:【化1】〔式(I)中、R1 は、炭素数7から17のアルキル基、またはアルケニル基を表わし、M1 は、アンモニウム基、アルカリ金属原子、アルカリ土類金属原子、アルカノールアミンのカチオン性残基、または塩基性アミノ酸のカチオン性残基を表わし、mは、M1 により表される原子または基の価数に等しい整数を表わし、nは、2〜20の整数を表わす。〕と、下記一般式(II)で示されるアルキルN-カルボキシエチル-N-ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイン化合物:【化2】〔式(II)中、R2 は、炭素数7から17のアルキル基、またはアルケニル基を表わし、M2 は、アンモニウム基、アルカリ金属原子、アルカノールアミンのカチオン性残基、または塩基性アミノ酸のカチオン性残基を表わす。〕とを含有することを特徴とする洗浄剤組成物。

IPC (6)：

C11D 1/94 , A61K 7/02 , A61K 7/075 , A61K 7/50 , C11D 1:29 , C11D 1:90

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

特開平3-215410
特開昭56-025108
特開昭62-185798

Cited by examiner (3)

特開平3-215410
特開昭56-025108
特開昭62-185798

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