マイクロ波処理装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (3)：岩橋文雄 , 内藤浩樹 , 永野大介
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006331530
Publication number (International publication number)：2008146967
Application date： Dec. 08, 2006
Publication date： Jun. 26, 2008
Summary：

【課題】複数の給電部を加熱室壁面に最適配置し夫々の給電部からの放射マイクロ波の位相差を最適化することで、様々な被加熱物を所望の状態に加熱する装置を提供する。【解決手段】マイクロ波発生部10は発振部11、2段構成の電力分配部12a、12b、12c、初段増幅部13a〜13d、主増幅部15a〜15d、被加熱物を収納する加熱室19、加熱室19の各壁面に配置されマイクロ波発生部10の4つの出力が伝送されそのマイクロ波を加熱室19内に放射供給する給電部25a〜25d、マイクロ波伝送路14cに挿入した位相可変部26を備え、給電部25a〜25dの配置構成および各給電部間のマイクロ波の位相差の可変制御により、様々な被加熱物の加熱の集中化あるいは均一化を促進させ所望の加熱状態を実現させることができる。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

発振部と、前記発振部の出力を複数に分配して出力する電力分配部と、前記電力分配部の出力をそれぞれ電力増幅する増幅部と、前記増幅部の出力をそれぞれ出力する複数の出力部とを有するマイクロ波発生部と、被加熱物を収納する加熱室と、前記加熱室に前記マイクロ波発生部のそれぞれの出力を供給する複数の給電部とを備え、前記複数の給電部は加熱室を構成する壁面の異なる複数の壁面に配置するとともに近接する2つの給電部から放射されるマイクロ波の位相差が略90度となるように給電部を配置したマイクロ波処理装置。

IPC (4)：

H05B 6/52 , H05B 6/64 , H05B 6/70 , H05B 6/74

FI (4)：

H05B6/52 , H05B6/64 D , H05B6/70 F , H05B6/74 E

F-Term (5)：

3K090AA01 , 3K090AB01 , 3K090AB14 , 3K090BB15 , 3K090CA16

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

特開昭56-132793号公報

Cited by examiner (4)

電子レンジ
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-262550 Applicant：三星電子株式会社
特開昭60-193292
特開昭56-132793

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