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J-GLOBAL ID：200903019311227740

高分子ゲルおよびその製造方法

Inventor： グン 剣萍 ,  古川 英光 ,  黒川 孝幸 ,  武富 直之 ,  中島 祐
Applicant, Patent owner： 国立大学法人 北海道大学
Agent (6)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  渡邊 隆 ,  鈴木 三義 ,  西 和哉 ,  村山 靖彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008157241
Publication number (International publication number)：2009298971
Application date： Jun. 16, 2008
Publication date： Dec. 24, 2009
Summary：

【課題】相互侵入網目構造を有し、中間段階での強度が良好であり、成形形状の自由度が高く、連続生産も可能である高分子ゲルを提供する。【解決手段】物理架橋ゲル中に第一のモノマーを導入し、第一のモノマーを重合し架橋することによって第一の網目構造を形成した後、第二のモノマーを導入し、第二のモノマーを重合し架橋することによって第二の網目構造を形成することを特徴とする高分子ゲルの製造方法。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

物理架橋ゲル中に第一のモノマーを導入し、該第一のモノマーを重合し架橋することによって第一の網目構造を形成した後、第二のモノマーを導入し、該第二のモノマーを重合し架橋することによって第二の網目構造を形成することを特徴とする高分子ゲルの製造方法。

IPC (1)：

C08F 2/00

FI (1)：

C08F2/00 C

F-Term (6)：

4J011CA01 ,  4J011CB02 ,  4J011CC02 ,  4J011HA02 ,  4J011PA67 ,  4J011PB08

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• 国際公開第03/093337号パンフレット