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J-GLOBAL ID：200903019315633034
磁気ディスク用ガラス基板の無電解Ni-Pめっき方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
山口 巖
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994122918
Publication number (International publication number)：1995334841
Application date： Jun. 06, 1994
Publication date： Dec. 22, 1995
Summary：
【要約】【目的】ガラス基板上に、良好な磁気ディスクを得るに充分な密着性と平滑性を有するNi-P層を形成するための好適な無電解めっき方法を提供する。【構成】ガラス基板に、脱脂処理,エッチング処理,表面異物除去処理,表面調整処理,感受化処理,活性化処理を順次行う前工程を施した後、無電解Ni-Pめっきを行う。エッチング液としてはフッ化水素酸とフッ化水素カリウムを含む水溶液が好適であり、表面異物除去処理液としては塩酸が好適であり、表面調整液としてはナトリウムメトキシドを含む水溶液が好適である。
Claim (excerpt)：
ガラス基板に、脱脂する第一工程,エッチングする第二工程,表面異物を除去する第三工程,表面を調整する第四工程,感受化処理する第五工程,活性化処理する第六工程からなる前処理工程を行った後、無電解Ni-Pめっき処理を行うことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の無電解Ni-Pめっき方法。
IPC (3)：
G11B 5/84
, C23C 18/18
, C23C 18/34
