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J-GLOBAL ID：200903019322205803
プリント配線基板の検査装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
高橋 祥泰
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991200115
Publication number (International publication number)：1993020433
Application date： Jul. 15, 1991
Publication date： Jan. 29, 1993
Summary：
【要約】【目的】 真の欠陥データを見逃すことなく,正確な検査ができ,また検査時におけるパターンの位置ズレ補正をする必要がない,プリント配線基板の検査装置を提供すること。【構成】 撮像装置21と,欠陥検出手段23と,データ集計用マスターCPU部24とを有する。上記欠陥検出手段23は,検査アルゴリズム部3,適合データ補正部33,マスク照合部34を有する。また,マスク作成時には疑似欠陥登録用アルゴリズムデータを,一方検査時には検査用アルゴリズムデータを,検査アルゴリズム部3に書き込むアルゴリズム設定CPU部37を有する。また適合データ補正部33においては,検査アルゴリズム部で検出された疑似欠陥データ,欠陥候補データをそれぞれマスクの分解能単位に補正する。
Claim (excerpt)：
プリント配線基板上の配線パターンを読み取る撮像装置と,該撮像装置の画像信号に基づいて真の欠陥データであるか否かを選別する欠陥検出手段と,該欠陥検出手段によって選別された真の欠陥データを集計するデータ集計手段とよりなり,かつ,上記欠陥検出手段は,マスク作成時には欠陥形状を認識すると共にアルゴリズムに適合するポイントの面積を大きくする疑似欠陥登録用アルゴリズムデータを,一方検査時には欠陥形状を認識しかつアルゴリズムに適合するポイントの面積を上記疑似欠陥登録用アルゴリズムデータの適合ポイントの面積よりも小さくする検査用アルゴリズムデータを,それぞれ検査アルゴリズム部に書き込むためのアルゴリズム設定CPU部と,マスク作成時には上記疑似欠陥登録用アルゴリズムデータに基づいて標準基板の2値画像を形状認識して疑似欠陥データを出力し,一方検査時には上記検査用アルゴリズムデータに基づいて被検査基板の2値画像を形状認識して欠陥候補データを出力する検査アルゴリズム部と,該検査アルゴリズム部からの上記両適合データをそれぞれマスク分解能単位に補正し,補正済み欠陥形状適合データとして出力する適合データ補正部と,上記マスク作成時における適合データ補正部からの補正済み欠陥形状適合データをマスクデータとして記憶させるためのマスクメモリー部と,検査時における適合データ補正部からの補正済み欠陥形状適合データと上記マスクメモリー部からのマスクデータとを照合するマスク照合部とより構成したことを特徴とするプリント配線基板の検査装置。
IPC (4)：
G06F 15/62 405
, G01B 11/24
, G01N 21/88
, H05K 3/00
