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J-GLOBAL ID:200903019334866198
原料供給装置
Inventor:
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,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
渡邉 勇 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997289133
Publication number (International publication number):1999111706
Application date: Oct. 06, 1997
Publication date: Apr. 23, 1999
Summary:
【要約】【課題】 気化過程で原料ガスの分圧を下げて、効率的に気化を促進できるようにした原料供給装置を提供する。【解決手段】 液体原料10に不活性ガスを溶解させるガス溶解部12,30と、液体原料10を気化温度以上に加熱して気化させる気化部14と、液体原料10を、溶解ガスを溶存させた状態でガス溶解部から気化部14まで供給する液体原料供給配管16を有することを特徴とする。
Claim (excerpt):
液体原料に不活性ガスを溶解させるガス溶解部と、前記液体原料を気化温度以上に加熱して気化させる気化部と、前記液体原料を、溶解ガスを溶存させた状態で前記ガス溶解部から前記気化部まで供給する液体原料供給配管を有することを特徴とする原料供給装置。
IPC (3):
H01L 21/31
, C23C 16/44
, H01L 21/205
FI (3):
H01L 21/31 B
, C23C 16/44 C
, H01L 21/205
Patent cited by the Patent:
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