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J-GLOBAL ID：200903019351348834
薄膜処理方法及びその装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
鈴江 武彦 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998102836
Publication number (International publication number)：1999293481
Application date： Apr. 14, 1998
Publication date： Oct. 26, 1999
Summary：
【要約】【課題】本発明は、AlOx を下地材料に対して十分大きな選択比でエッチングする。【解決手段】エッチングガス17としてBCl3 と飽和若しくは不飽和炭化水素結合を有する少なくとも1種類のガスとの混合ガスを用いた。
Claim (excerpt)：
エッチングガスの励起により生じた中性活性種と反応性イオンを用いて酸化アルミニウム薄膜を下地材料のアルミニウムに対して選択的にエッチングする薄膜処理方法において、前記エッチングガスは、BCl3 と飽和若しくは不飽和炭化水素結合を有する少なくとも1種類のガスとを含むことを特徴とする薄膜処理方法。
IPC (2)：
FI (2)：
C23F 4/00 E
, H01L 21/302 E
