Pat
J-GLOBAL ID:200903019361030409
粉体処理装置
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
北村 修一郎
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998161871
Publication number (International publication number):1999347428
Application date: Jun. 10, 1998
Publication date: Dec. 21, 1999
Summary:
【要約】【課題】 粉体の固着を有効に防止しつつ優れた処理効率を有する粉体処理装置を提供する。【解決手段】 粉体を投入可能な略円筒状の内周面Fからなる処理室1aを有し、第1軸芯J1回りに回転自在な筒体1と、処理室1aの内部において第2軸芯J2回りに回転自在な回転羽根2とを有する粉体処理装置であって、第1軸芯J1および第2軸芯J2が横方向に延出しており、処理室1aの内周面Fに、第1面F1と第2面F2とからなる突部3を設けてあって、回転羽根2の先端部2cが、突部3に対して第1面F1の側から第2面F2の側に相対回転するものであり、第1面F1を第1軸芯J1の側に突出させた曲面に構成してある。
Claim (excerpt):
粉体を投入可能な略円筒状の内周面からなる処理室を有し、第1軸芯回りに回転自在な筒体と、前記処理室の内部において第2軸芯回りに回転自在な回転羽根とを有する粉体処理装置であって、前記第1軸芯および前記第2軸芯が横方向に延出しており、前記処理室の内周面に、第1面と第2面とからなる突部を設けてあって、前記回転羽根の先端部が、前記突部に対して前記第1面の側から前記第2面の側に相対回転するものであり、前記第1面を前記第1軸芯の側に突出させた曲面に構成してある粉体処理装置。
IPC (4):
B02C 13/18
, B01F 9/08
, B01J 2/12
, B02C 17/16
FI (4):
B02C 13/18 A
, B01F 9/08
, B01J 2/12
, B02C 17/16 A
Return to Previous Page