Pat

J-GLOBAL ID：200903019378526645

プラズマ発生装置

Inventor： 菅原 實 ,  黒河 治重
Applicant, Patent owner： 菅原 實 ,  国際電気株式会社
Agent (1)： 三好 祥二
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992143307
Publication number (International publication number)：1993315096
Application date： May. 08, 1992
Publication date： Nov. 26, 1993
Summary：

【要約】【目的】プラズマの均一性と高密度化を保証し、被処理物のダメージを軽減する。【構成】陰電極11、陽電極12を同心状に配設し、両電極間に高周波電源8を接続すると共に前記電極の周囲に軸心方向の磁場を発生させる主磁場コイル13を設け、前記両電極の一端側に被処理物16を配設し、発生する磁場と電界を直角とし、電界、磁束密度の相乗で電子を駆動し、低気圧で高密なプラズマを発生させる。又被処理物は発生したプラズマの外に位置し、直接プラズマに晒さない。

Claim (excerpt)：

陰電極、陽電極を同心状に配設し、両電極間に高周波電源を接続すると共に前記電極の周囲に軸心方向の磁場を発生させる主磁場コイルを設け、前記両電極の一端側に被処理物を配設する様構成したことを特徴とするプラズマ発生装置。

IPC (3)：

H05H 1/46 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/302