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J-GLOBAL ID：200903019390049151

処理ガス排出物の処理

Inventor： シャルーイル シャルーイアン ,  アシッシュ バトナガー ,  トニー エス カウシャル
Applicant, Patent owner： アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
Agent (1)： 中村 稔 (外9名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001060906
Publication number (International publication number)：2002018237
Application date： Jan. 29, 2001
Publication date： Jan. 22, 2002
Summary：

【要約】【課題】処理排気に含まれる有害ガスの環境への持ち込みを最小にする。【解決手段】処理排気中のペルフルオロ化合物等の有害ガスは、処理排気ガスとヒドロキシル基生成添加物質および/または酸素基生成添加物質との反応により除去される。他の態様として反応を促進するエネルギーは、加熱器、触媒および/または光活性器により提供できる。

Claim (excerpt)：

(a)排気ガスが通る排出部を有し、基板を活性化ガス中で処理可能な処理室と、(b)前記排出部に接続され、ヒドロキシル基または酸素含有化学種を含む添加ガスを前記排気ガスに供給して前記排気を処理する添加ガス供給部と、を備える、基板を処理可能な装置。

IPC (6)：

B01D 53/68 ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/70 ,  B01D 53/86 ,  B01J 19/08 ,  B01J 19/12

FI (6)：

B01J 19/08 H ,  B01J 19/12 C ,  B01D 53/34 134 C ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/36 G ,  B01D 53/34 134 E

F-Term (63)：

4D002AA22 ,  4D002AA23 ,  4D002AC10 ,  4D002BA02 ,  4D002BA05 ,  4D002BA09 ,  4D002BA12 ,  4D002BA13 ,  4D002DA35 ,  4D002DA51 ,  4D002DA52 ,  4D002DA70 ,  4D002EA05 ,  4D002GA03 ,  4D048AA11 ,  4D048AA21 ,  4D048AC07 ,  4D048AC08 ,  4D048AC09 ,  4D048BA03X ,  4D048BA06X ,  4D048BA10X ,  4D048BA11X ,  4D048BA18X ,  4D048BA23X ,  4D048BA26X ,  4D048BA27X ,  4D048BA30X ,  4D048BA31X ,  4D048BA32X ,  4D048BA34X ,  4D048BA35X ,  4D048BA37X ,  4D048BA38X ,  4D048BA41X ,  4D048BA45X ,  4D048BA46X ,  4D048BB01 ,  4D048BB02 ,  4D048CA07 ,  4D048CC38 ,  4D048CC41 ,  4D048CC52 ,  4D048CC61 ,  4D048CC63 ,  4D048CD02 ,  4D048EA03 ,  4G075AA03 ,  4G075AA24 ,  4G075AA30 ,  4G075AA37 ,  4G075BC04 ,  4G075BC06 ,  4G075CA02 ,  4G075CA24 ,  4G075CA32 ,  4G075CA33 ,  4G075DA01 ,  4G075EB41 ,  4G075FB01 ,  4G075FB02 ,  4G075FC04 ,  4G075FC15