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J-GLOBAL ID:200903019431230702
ポリボロシロキサンの製造方法、ポリボロシロキサン塗膜及び該塗膜を有する無機絶縁電線
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
多田 公子 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996314654
Publication number (International publication number):1998152561
Application date: Nov. 26, 1996
Publication date: Jun. 09, 1998
Summary:
【要約】【課題】 高い可撓性を有し、比較的低い温度での焼成でもべたつきを示さず、加熱減量が少なく、高い耐熱性と耐湿性を有する無機ポリマーを形成することができるポリボロシロキサンの製造方法を提供する。【解決手段】 二官能性シラン化合物をホウ素化合物と反応させ、得られた生成物をさらに三官能性シラン化合物及びホウ素化合物と反応させることを含むポリボロシロキサンの製造方法。
Claim (excerpt):
下記式(a)【化1】(式中、Rはアルキル基、アルケニル基またはアリール基を表し、Xはアルコキシ基、ヒドロキシル基またはハロゲン原子を表す)の化合物をホウ素化合物と反応させ、得られた生成物をさらに、下記式(b)【化2】(式中、R及びXは上記と同じ意味を表す)の化合物及びホウ素化合物と反応させることを含む、ポリボロシロキサンの製造方法。
IPC (4):
C08G 77/22
, H01B 7/02
, H01B 7/34
, C09D183/08
FI (4):
C08G 77/22
, H01B 7/02 E
, H01B 7/34 A
, C09D183/08
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