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J-GLOBAL ID：200903019477976628

可燃性ガス濃度制御系

Inventor： 藤本 清志 ,  藤井 正 ,  片岡 良之 ,  平塚 利治
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997031705
Publication number (International publication number)：1998227885
Application date： Feb. 17, 1997
Publication date： Aug. 25, 1998
Summary：

【要約】【課題】触媒式の可燃性ガス濃度制御系で、水素の反応熱によって生じる原子炉格納容器内の循環流を促進して、可燃性ガスを効率的に処理する。【解決手段】原子炉圧力容器11を収納するドライウエル13と圧力抑制室を含む原子炉格納容器12内部に、水素ガスと酸素ガスを反応させる触媒1と、触媒1を収納するチムニ2からなる可燃性ガス濃度低減装置を多数配置した可燃性ガス濃度制御系で、触媒1上端からチムニ出口部4までの高さを触媒1の高さの2倍以上とし、チムニ出口部4の流路面積をチムニ入口部3の流路面積の25%以上とする。

Claim (excerpt)：

原子炉圧力容器を収納するドライウエルと圧力抑制室を含む原子炉格納容器内部に、水素ガスと酸素ガスを反応させる触媒と、前記触媒を収納するチムニからなる可燃性ガス濃度低減装置を多数配置した可燃性ガス濃度制御系において、前記触媒の上端から前記チムニ出口部までの高さを前記触媒の高さの2倍以上とし、前記チムニ出口部の流路面積を前記チムニ入口部の流路面積の25%以上とすることを特徴とする可燃性ガス濃度制御系。