Pat
J-GLOBAL ID:200903019482347469

磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスク、並びに磁気ディスク用ガラス基板の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 須山 佐一
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000164873
Publication number (International publication number):2001344744
Application date: Jun. 01, 2000
Publication date: Dec. 14, 2001
Summary:
【要約】【課題】 磁気ディスク用ガラス基板主表面の表面性を良好にするとともに、その主表面の外周端部と内周端部の起伏量を十分に小さくし平坦にして、例えばRL(ランプ・ロード Ramp Load)方式やL/UL ( ロード・アンロード Load Unload)方式の磁気ディスクにも適用可能なガラス基板を製造可能にする。【解決手段】 硬質ポリッシャを用いる第1段階と軟質ポリッシャを用いる第2段階の少なくとも2段階のポリッシユ工程における第2段階のポリッシュにおいて、研磨量を1μm 以上、7μm以下にするとともに、研磨加工レートを0.1μm/分以上、0.5μm/分以下にしてガラス基板の研磨仕上げを行なう。
Claim (excerpt):
磁気ディスク媒体用ガラス基板において、主表面が硬質ポリッシャを用いる第1段階ポリッシュと軟質ポリッシャを用い研磨加工レート0.5μm/分以下の第2段階ポリッシュの少なくとも2段階のポリッシュを経て形成されてなり、その平坦部を基準とした外周端部の起伏が-0.3μm 以上、+0.3μm以下の範囲であり、また内周部の起伏が-0.15μm 以上、+0.15μm 以下の範囲であることを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板。
IPC (3):
G11B 5/84 ,  C03C 19/00 ,  G11B 5/73
FI (3):
G11B 5/84 A ,  C03C 19/00 Z ,  G11B 5/73
F-Term (13):
4G059AA09 ,  4G059AB03 ,  4G059AC03 ,  5D006CB04 ,  5D006CB07 ,  5D006DA03 ,  5D006FA00 ,  5D112AA02 ,  5D112AA24 ,  5D112BA03 ,  5D112GA02 ,  5D112GA09 ,  5D112GA16

Return to Previous Page