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J-GLOBAL ID：200903019487690730

高純度コロイダルシリカの製造方法

Inventor： 佐藤 善美 ,  橋本 晃
Applicant, Patent owner： 東京応化工業株式会社
Agent (1)： 皿田 秀夫 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994102209
Publication number (International publication number)：1995291614
Application date： Apr. 15, 1994
Publication date： Nov. 07, 1995
Summary：

【要約】【目的】 Na、K等のアルカリ金属の含有率が1ppm以下と極めて少なく、かつ低コストで製造でき、また、微粒子等の添加剤をできるだけ安定な状態で溶液中に存在させたり、研磨後の後処理で微粒子添加剤の除去が容易になり得る高純度コロイダルシリカの製造方法を提供する。【構成】 含水珪酸塩を酸と接触させて、含水シリカを生成させる含水シリカ生成工程、前記生成した含水シリカを酸および/または水で洗浄する工程、および前記含水シリカをアミン系アルカリに分散させた液に酸を添加しつつ、コロイダルシリカを生成させる工程を含むように構成する。

Claim (excerpt)：

含水珪酸塩を酸と接触させて、含水シリカを生成させる含水シリカ生成工程、前記生成した含水シリカを酸および/または水で洗浄する工程、および前記含水シリカをアミン系アルカリに分散させた液に酸を添加しつつ、コロイダルシリカを生成させる工程を含むことを特徴とする高純度コロイダルシリカの製造方法。