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J-GLOBAL ID：200903019487860709

投影露光方法とそのための装置

Inventor： 臼井 洋一
Applicant, Patent owner： 富士通株式会社
Agent (1)： 柏谷 昭司 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993060273
Publication number (International publication number)：1994275497
Application date： Mar. 19, 1993
Publication date： Sep. 30, 1994
Summary：

【要約】【目的】 投影露光方法とそのための装置に関し、投影露光する際の光学系に被露光面の平坦性のずれに起因する光路差を補正する機能をもたせ、パターンの焦点ぼけを低減して投影露光面積を大型化する手段を提供する。【構成】 投影露光用光源8から放射された露光光をマスク9に入射し、その透過光を適応光学系である光路差補正用反射形鏡4に入射し、その反射光を投影露光用光学系5を通して露光対象6に投影する投影露光法であって、レーザ干渉系1等によって露光光の光路長を測定し、露光対象6の平坦性のずれ等によって生じる光路差を制御装置7によって演算し、その演算結果によって、光路差補正用反射形鏡4のアクチュエータ3のアクチュエータ素子31 ,32 ,33 ・・・を駆動してその反射面の形状を変えて、この光路差を最小化する。反射鏡に代えて、屈折率可変の透明体を用いて光路差を最小化することもできる。

Claim (excerpt)：

光源から放射された露光光をマスクに入射し、該マスクを透過した露光光を、反射面の形状または屈折率を変化することができる適応光学系を介して被露光面に投影する投影露光方法であって、該適応光学系の反射面の形状または屈折率を被露光面の平坦性のずれ等によって生じる光路差を補償するように制御することを特徴とする投影露光方法。

IPC (2)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平4-307922
  
• 特開平3-011720
  
• 特開平4-131855