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J-GLOBAL ID：200903019508927086

プラズマ処理装置

Inventor： 小山 士郎
Applicant, Patent owner： 東京エレクトロン株式会社
Agent (1)： 浅井 章弘 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992184562
Publication number (International publication number)：1994005547
Application date： Jun. 18, 1992
Publication date： Jan. 14, 1994
Summary：

【要約】【目的】 光透過部材の周辺側部に加熱部材を設けて有効面積を大きくすると共に組み立て工程数の少ない覗き窓部を有するプラズマ処理装置を提供する。【構成】 プラズマ処理装置の容器側壁76に覗き窓取付孔62を形成し、ここに所定の幅を有する光透過部材64を設けると共にこの光透過部材64の周辺側部に加熱部材68を形成する。これにより、光の透過面積の大きな、しかも組み立て工程数の少ない覗き窓部60を構成する。

Claim (excerpt)：

被処理体にプラズマ処理を施すための処理空間からの光を取り出す覗き窓部を有するプラズマ処理装置において、前記覗き窓部は、前記光の取り出し方向に沿って所定の幅を有する光透過部材と、前記光透過部材の周辺側部に設けた加熱部材とにより構成されることを特徴とするプラズマ処理装置。