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J-GLOBAL ID：200903019515289834

磁気記録媒体、その製造方法及び磁気記憶装置

Inventor： 松田 好文 ,  石川 晃 ,  屋久 四男 ,  細江 譲 ,  神邊 哲也 ,  阪本 浩二
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 高橋 明夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996292451
Publication number (International publication number)：1998143865
Application date： Nov. 05, 1996
Publication date： May. 29, 1998
Summary：

【要約】【課題】磁性膜の配向性を向上させ、磁性膜の結晶粒の微細化と均一化を図り、低ノイズの磁気記録媒体を提供すること。【解決手段】基板40上に、直接又は第3下地膜を介して配置された第1下地膜40、40’と、この上に直接配置された第2下地膜42、42’と、さらにその上に配置された磁性膜43、43’と、さらにその上に配置された保護膜44、44’とを有し、第1下地膜と第2下地膜の界面に、酸素量の多いクラスタの領域を分散させた磁気記録媒体。第1下地膜は合金とし、それを構成する元素の250°Cの温度における酸化物生成標準自由エネルギーΔG°の差が大きい2種の元素が含まれていることが好ましい。

Claim (excerpt)：

基板上に、直接又は第3下地膜を介して第1下地膜を形成する工程、該第1下地膜を酸素有する雰囲気に、PO2・t(ただし、PO2は雰囲気の酸素分圧、tは該雰囲気に曝す時間である)が1×10-6(Torr・秒)以上、1×10-2(Torr・秒)以下の間曝す工程、上記雰囲気に曝された第1下地膜上に直接第2下地膜を形成する工程及び該第2下地膜上に磁性膜を形成する工程を有することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。

IPC (3)：

G11B 5/85 ,  C23C 14/06 ,  G11B 5/66

FI (3)：

G11B 5/85 Z ,  C23C 14/06 T ,  G11B 5/66

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 金属薄膜型磁気記録媒体とその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-257176   Applicant：株式会社クボタ
• 磁気記録媒体およびその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-020697   Applicant：株式会社日立製作所