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J-GLOBAL ID：200903019548231688
ガス希釈システム並びにガス希釈方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
鈴江 武彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992043793
Publication number (International publication number)：1993118972
Application date： Feb. 28, 1992
Publication date： May. 14, 1993
Summary：
【要約】【目的】低濃度ガス相校正標準をつくることのできる小形の装置を提供することで有る。【構成】低濃度ガス相の校正標準を準備するためのシステムであり、不純物を含む標準ガスと希釈ガスとの流れは、夫々の校正オリフイス40,42の上流側の圧力を調整することにより制御される。ガス流の圧力は、臨界流れ状態がオリフイスを介して維持されるように調整される。これら2つの流れはガス中の不純物の既知の希釈度を得るように混合される。
Claim (excerpt)：
圧力標準ガスを収容する第1のガス収容手段並びに圧力希釈ガスを収容する第2のガス収容手段と、これら第1並びに第2のガス収容手段からガスを夫々導く第1並びに第2の導通手段と、前記第1並びに第2の導通手段の少なくとも一方で導かれているガスの圧力を測定するセンサー手段と、前記第1並びに第2の導通手段と、夫々連通し、各々が圧力ガスを一定の流速で導く第1並びに第2のオリフイスと、これら第1並びに第2のオリフイスを流れたガスを混合する混合チヤンバ手段とを具備するガス希釈システム。
IPC (2)：
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (7)
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