被膜形成装置及び被膜形成方法

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：小山有 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999024546
Publication number (International publication number)：1999262720
Application date： Aug. 27, 1996
Publication date： Sep. 28, 1999
Summary：

【要約】【課題】被処理物に塗布された塗布液を波打ちのない被膜とする。【解決手段】被処理物W表面の中央に被膜形成用の塗布液を滴下し、被処理物W表面に塗布液を均一に拡げる。この時、被処理物Wの外端部下面には被膜形成用の塗布液の一部が廻り込んでいるがそのまま減圧乾燥装置3に搬送してある程度まで乾燥せしめる。次いで、加熱乾燥をする。

Claim (excerpt)：

ガラス基板や半導体ウェハー等の被処理物表面に被膜を形成する装置において、この装置は被処理物の搬送ラインに沿って、上流側から下流側に向かって、被膜となる液体を被処理物表面に均一に拡げる塗布装置、被処理物表面に塗布した塗布液をある程度乾燥させる減圧乾燥装置及び加熱装置を順次配置したことを特徴とする被膜形成装置。

IPC (3)：

B05C 9/14 , B05D 3/00 , B05C 11/08

FI (3)：

B05C 9/14 , B05D 3/00 Z , B05C 11/08

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (6)

特開昭64-022375
特開昭62-022431
特開昭58-098925

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Cited by examiner (12)

特開昭64-022375
特開昭62-022431
特開昭58-098925

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