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J-GLOBAL ID：200903019564343895

アクティブ光導波路用組成物、これを用いたアクティブ光導波路の製造法及びアクティブ光導波路

Inventor： 森田 正樹 ,  林田 茂 ,  田谷 昌人
Applicant, Patent owner： 日立化成工業株式会社
Agent (1)： 若林 邦彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994176758
Publication number (International publication number)：1996041335
Application date： Jul. 28, 1994
Publication date： Feb. 13, 1996
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】 耐熱性に優れ、かつ光スイッチングや変調等の光信号処理に優れたアクティブ光導波路用組成物、これを用いたアクティブ光導波路の製造法及びアクティブ光導波路を提供する。【構成】 フッ素化ポリアミド酸及び電気光学材料を含むアクティブ光導波路用組成物であって、電気光学材料が一般式(I)(式中、R1は1価の置換若しくは非置換の芳香族炭化水素基、複素環基又は不飽和脂肪族炭化水素基を示し、R2は1価の置換若しくは非置換の芳香族炭化水素基、複素環基、脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基、特性基又は水素原子を示し、R3は1価の置換若しくは非置換の芳香族炭化水素基、複素環基、脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基、特性基又は水素原子を示し、COR4は置換若しくは非置換のカルバモイル基又はカルボキシル基若しくはそのアルキルエステルを示す)で表される。

Claim (excerpt)：

フッ素化ポリアミド酸及び電気光学材料を含むアクティブ光導波路用組成物であって、電気光学材料が一般式(I)【化1】(式中、R1は1価の置換若しくは非置換の芳香族炭化水素基、複素環基又は不飽和脂肪族炭化水素基を示し、R2は1価の置換若しくは非置換の芳香族炭化水素基、複素環基、脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基、特性基(カルバモイル基、カルボキシル基及びそのアルキルエステル、シアノ基、ヒドロキシ基、オキシ基、ハロゲン基、アシルアミノ基)又は水素原子を示し、R1とR2とで炭化水素環又は複素環を形成していてもよく、R1及びR2は各々独立にNHR3基に対して、シス又はトランスのいずれの位置でもよく、R3は1価の置換若しくは非置換の芳香族炭化水素基、複素環基、脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基、特性基(アシル基、ベンゾイル基、ヒドロキシ基、スルホニル基)又は水素原子を示し、COR4は置換若しくは非置換のカルバモイル基又はカルボキシル基若しくはそのアルキルエステルを示す)で表されるα-アミノアクリル酸誘導体であるアクティブ光導波路用組成物。

IPC (5)：

C08L 79/08 LRB ,  G02B 6/12 ,  G02B 6/13 ,  G02F 1/03 501 ,  G02F 1/313

FI (3)：

G02B 6/12 N ,  G02B 6/12 M ,  G02B 6/12 J

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平2-251564
  
• 特開平4-009807
  
• 特開平3-114031