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J-GLOBAL ID：200903019571841221

ガス分離膜およびその製造方法

Inventor： 大嶋 仁英 ,  積 洋二
Applicant, Patent owner： 京セラ株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000092192
Publication number (International publication number)：2001276586
Application date： Mar. 29, 2000
Publication date： Oct. 09, 2001
Summary：

【要約】【課題】水分の影響を受けることなく、複数のガスを含有する混合ガスから特定ガスのみを選択的かつ効率的に分離するのに好適なガス分離膜およびガス分離フィルタを提供する。【解決手段】多孔質支持体2の少なくとも一方の表面に通気性を有し、Siを含有するシロキサン結合によって形成された複数の細孔4を有する非晶質の酸化物からなる分離膜3を被着形成し、複数の細孔4の内壁面に水が吸着してなるガス分離フィルタ1を用いて、特定ガスを選択的かつ効率的に透過、分離する。

Claim (excerpt)：

多数の細孔を具備するシリカを含有する多孔質体からなり、該細孔の内壁面に水が吸着してなり、該細孔によって特定のガスのみを選択的に透過することができるガス分離膜。

IPC (4)：

B01D 71/02 500 ,  B01D 69/12 ,  B01D 71/70 500 ,  C04B 41/87

FI (4)：

B01D 71/02 500 ,  B01D 69/12 ,  B01D 71/70 500 ,  C04B 41/87 A

F-Term (30)：

4D006GA41 ,  4D006KE02P ,  4D006KE06P ,  4D006KE07P ,  4D006KE08P ,  4D006KE12P ,  4D006KE13P ,  4D006KE16P ,  4D006MA02 ,  4D006MA03 ,  4D006MA06 ,  4D006MA07 ,  4D006MA22 ,  4D006MA24 ,  4D006MA31 ,  4D006MA40 ,  4D006MB04 ,  4D006MB19 ,  4D006MC03X ,  4D006MC65X ,  4D006MC71X ,  4D006MC90 ,  4D006NA39 ,  4D006NA45 ,  4D006NA50 ,  4D006PA10 ,  4D006PB20 ,  4D006PB62 ,  4D006PB63 ,  4D006PC71