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J-GLOBAL ID：200903019587681585

銅電解殿物の処理方法

Inventor： 安部 吉史 ,  竹林 一彰
Applicant, Patent owner： 日鉱金属株式会社
Agent (1)： 倉内 基弘 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000212633
Publication number (International publication number)：2001316735
Application date： Jul. 13, 2000
Publication date： Nov. 16, 2001
Summary：

【要約】【課題】 白金族・金とセレン・テルルを効率よく分離可能とし、併せてセレンとテルルをも効率よく分離回収しうる銅電解殿物湿式処理プロセスの開発。【解決手段】 銅電解殿物に脱銅工程、塩化浸出工程及び金抽出工程を経由する予備処理を施し、得られた金抽出後液に、液中塩素イオン濃度を1.5モル/l以下に維持して、60〜90°Cで、空気で8〜12%濃度に希釈した亜硫酸ガスを白金族・金モル濃度の8〜15倍の量吹き込み、後液中に残留している白金族・金とセレン・テルルとを分離して白金族・金含有還元物を得る。続いて、白金族・金を分離した後液に、液中の塩素イオン濃度を2.0モル以下に維持し、溶液中のセレン濃度を3g/l以上に保ちながら、60〜90°Cで、亜硫酸ガスをセレンのモル濃度の2倍以下吹き込みセレンとテルルとを分離してセレン含有還元物を得る。更に、セレンを分離した後液に60〜90°Cで亜硫酸ガスを吹き込みテルル含有還元物を得る。

Claim (excerpt)：

銅電解殿物の処理方法であって、(A)銅電解殿物に脱銅工程、塩化浸出工程及び金抽出工程を経由する予備処理を施し、(B)得られた金抽出後液に、液中塩素イオン濃度を1.5モル/l以下に維持して、60〜90°Cの温度において、空気で8〜12%濃度に希釈した亜硫酸ガスを白金族・金モル濃度の8〜15倍の量において吹き込むことにより、前記後液中に残留している白金族・金とセレン・テルルとを分離して白金族・金含有還元物を得る還元処理を施すことを特徴とする銅電解殿物の処理方法。

IPC (4)：

C22B 11/06 ,  C22B 3/26 ,  C22B 7/00 ,  C22B 11/00

FI (4)：

C22B 11/06 ,  C22B 7/00 H ,  C22B 3/00 J ,  C22B 11/04

F-Term (11)：

4K001AA01 ,  4K001AA04 ,  4K001AA09 ,  4K001AA22 ,  4K001AA26 ,  4K001AA41 ,  4K001BA17 ,  4K001CA05 ,  4K001DB04 ,  4K001DB19 ,  4K001DB26