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J-GLOBAL ID：200903019589509950

X線マスク用支持膜

Inventor： 太田 恒明
Applicant, Patent owner： 沖電気工業株式会社
Agent (1)： 船橋 國則
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995105423
Publication number (International publication number)：1996306607
Application date： Apr. 28, 1995
Publication date： Nov. 22, 1996
Summary：

【要約】【目的】 X線マスク用支持膜に要求される全ての項目を満足するX線マスク用支持膜を提供する。【構成】 シリコン基板1上に設けられてX線露光に用いられるX線マスクを支持するためのX線マスク用の支持膜1である。膜厚が0.5μm以下のSiC膜3と、膜厚が0.1μm以下のSiN膜4とが交互に積層され、全体の厚さが1.0〜3.0μmに形成されてなる。SiC膜3およびSiN膜4は、共にその引っ張り応力が5×107 〜30×107 Paに調整されている。

Claim (excerpt)：

シリコン基板上に設けられてX線露光に用いられるX線マスクを支持するためのX線マスク用の支持膜であって、膜厚が0.5μm以下のSiC膜と膜厚が0.1μm以下のSiN膜とが交互に積層されて全体の厚さが1.0〜3.0μmに形成されてなるX線マスク用支持膜。

IPC (2)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/16

FI (2)：

H01L 21/30 531 M ,  G03F 1/16 A