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J-GLOBAL ID:200903019660256154

気流層ガス化装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 鵜沼 辰之
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1991325707
Publication number (International publication number):1993156266
Application date: Dec. 10, 1991
Publication date: Jun. 22, 1993
Summary:
【要約】【目的】 高いガス化効率が得られる気流層ガス化装置を提供する。【構成】 ガス化炉60から飛散するチャーをサイクロン70で捕集し、この捕集チャーをロードセル74が設置されたチャー回収ホッパ72に供給する。次にチャー回収ホッパ72内のチャーをロードセル94が設置されたチャー供給ホッパ90に供給する。ロードセル74の増加量の時間変化からチャー回収量を計算し、ロードセル94の減少量の時間変化からガス化炉65へのチャー供給量を計算し、チャー供給量をチャー回収量と一致するようにフィーダ100の回転数を制御する。チャー供給量に比例してチャーバーナ104に供給する酸化剤103の量を制御弁115を介して制御する。
Claim (excerpt):
微粉固体炭素系原料の灰の溶融温度以上に保持されたガス化炉内に、前記原料と酸化剤とを供給し、前記ガス化炉内から飛散する未燃分を捕集し、該未燃物を酸化剤と共に再び前記ガス化炉内に供給する気流層式ガス装置において、前記未燃分の捕集量と前記ガス化炉への供給量を一致させる手段と、該未燃分の前記ガス化炉への供給量に対応して前記酸化剤量を制御する手段とを設けたことを特徴とする気流層ガス化装置。
IPC (3):
C10J 3/46 ,  C10J 3/48 ,  C10J 3/50
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
  • 特開平1-172494
  • 特開昭58-194986

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